《中國專利與商標》雜志論文格式要求：
①內容摘要與作者單位全稱間空2-3行，要求摘要內容青簡意賅，嚴謹活潑，體現(xiàn)全文主題思想之精髓，不是文中某段落某句話的重復摘錄。
②論文所涉及的課題若取得國家或部、省級、校級以上基金資助或屬攻關項目，請務必注明基金編號。
③基本要求:文獻引用和說明性注釋均采用當頁腳注形式。腳注序號用①,②,③……標識,每頁單獨排序。
④靜態(tài)圖:圖或照片應另附于文后,分別按其在正文中出現(xiàn)的先后次序連續(xù)編碼。圖題和圖說明應簡潔明確,具有自明性。
⑤來稿應含以下部分：中英文題名、中英文摘要、中英文關鍵詞、中圖分類號、正文以及必要的圖表、參考文獻。
基本信息
《中國專利與商標》雜志是由中國專利與商標雜志社主管，中國專利與商標雜志社主辦的國內外公開發(fā)行的學術理論期刊，創(chuàng)刊于1985年，是國內政法領域具有廣泛影響力的權威刊物。
該雜志國際刊號為1680-6050，現(xiàn)被維普收錄(中)、國家圖書館館藏、上海圖書館館藏等權威數(shù)據(jù)庫收錄。
欄目設置
《中國專利與商標》雜志欄目涵蓋政法領域多個維度，包括：業(yè)內信息、專題文章、專利、商標、商業(yè)秘密、知識産權制度、視角等。
作為一本具有較高學術水平和影響力的政法雜志，多年來一直致力于推動政法領域的改革與發(fā)展，為政法工作者和研究者提供了一個交流和探索的平臺，對促進我國政法事業(yè)的發(fā)展起到了積極的作用。
《中國專利與商標》雜志往年文章平均引文率
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